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Substrato ceramico al nitruro di alluminio
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Disco scanalato per apparecchiature in ceramica al nitruro di alluminio a semiconduttore (AlN).

Disco scanalato per apparecchiature in ceramica al nitruro di alluminio a semiconduttore (AlN).

Le ceramiche al nitruro di alluminio (AlN) sono elettricamente isolanti e hanno un'eccellente conducibilità termica, il che le rende ideali per le applicazioni in cui è richiesta la dissipazione del calore.

Dettagli del prodotto:

  1. Materiale: nitruro di alluminio
  2. Funzione: dispositivo di isolamento e dissipazione del calore.
  3. Tipo: ceramica.
  4. Colore: grigio.
  5. Può essere personalizzato: Sì, si prega di fornire disegni di prodotti specifici.

Disco scanalato per apparecchiature in ceramica al nitruro di alluminio a semiconduttore (AlN).

Descrizione del prodotto:

Il processo di produzione dei semiconduttori include un ambiente ostile in cui viene generato il plasma. Pertanto, la ceramica al nitruro di alluminio con un'eccellente resistenza al plasma è più adatta alla produzione di semiconduttori. Inoltre, nella fabbricazione di semiconduttori, viene utilizzata una combinazione di gas precursori volatili, plasma e alte temperature per depositare pellicole di alta qualità sui wafer. Le camere di deposizione e gli strumenti per la manipolazione dei wafer richiedono componenti ceramici durevoli per resistere a questi ambienti difficili, quindi il disco scanalato in ceramica al nitruro di alluminio è adatto per l'industria dei semiconduttori.

半导体 陶瓷盘 的图像结果

I nostri substrati in nitruro di alluminio (AlN) sono disponibili in varie dimensioni e spessori. Grazie a un inventario ampio e attivo, possiamo spedire rapidamente la tua parte affinché tu possa iniziare il tuo progetto.

Nostro servizio:

Vi preghiamo di contattarci per la personalizzazione.

Specifica:

Dimensione (LxL)φ170mm ecc.
Spessore7mm ecc.
Conduttività termica170W/m.K
Costante dielettrica8-9 (MHz)
Densità apparente3,3 g/cm³
Ruvidezza della superficieRa ≤6 μm su entrambi i lati

Vantaggio aziendale:

Huaqing fondata nel 2004, con un investimento somma di 80 milioni di RMB, capitale sociale 40 milioni di RMB. I prodotti ceramici AlN e Al2O3 di Huaqing hanno un'elevata conduttività termica, una bassa costante dielettrica, un buon fattore di dissipazione e un'eccellente proprietà meccanica rispetto alle altre fabbriche del settore. Le ceramiche AlN e Al2O3 sono ampiamente utilizzate in HBLED, opto-comunicazione, IGBT, dispositivi di potenza, TEC e altre applicazioni di fascia alta.

Officina e attrezzatura:

Imballaggio e consegna:
Consegna tramite UPS, DHL, Fedex ecc.

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